cmp抛光液验证平台

新创纳公司拥有非常完备的cmp抛光液验证设备，在cmp抛光液的开发研究中起着至关重要的作用，这些设备能够满足各种尺寸、材质衬底材料的抛光液制成验证。

铜盘抛光机用于晶圆抛光制成前一道的铜抛制成。

CP-4测试机台可以在线检测抛光过程中的摩擦系统、温度和声学信息的变化，用于抛光过程中各种数据的收集，非常适合于抛光机理的研究。

32SPAW单面抛光机，用于对金属、陶瓷等材料所需抛光液的开发研究。

36GPAW单面软抛机，用于对蓝宝石晶圆、化合物半导体等材料所需抛光液的开发研究。

50GPAW单面抛光机，用于对大尺寸蓝宝石晶圆、大尺寸硅片等材料所需抛光液的开发研究。

DSM 16B双抛机用于对各种材料双抛抛光液的开发研究。

超声波清洗机用于抛光完后晶片的清洗，以便对抛光后的晶片表面进行粗糙度和缺陷等情况的检测。